آبکاری نقره خلاء، لایه فیلم ریز

آبکاری نقره خلاء، لایه فیلم ریز

کندوپاش مگنترونی نوعی رسوب فیزیکی بخار است. روش کندوپاش عمومی را می توان برای تهیه فلزات، نیمه هادی ها، عایق ها و سایر مواد استفاده کرد و دارای ویژگی های بارگذاری تجهیزات بزرگ، یادگیری آسان، لایه لایه ریز و چسبندگی قوی است. .

در کندوپاش مگنترون، یک میدان مغناطیسی از طریق سطح کاتد هدف وارد می‌شود و از محصور کردن ذرات باردار توسط میدان مغناطیسی برای افزایش چگالی پلاسما برای افزایش سرعت کندوپاش استفاده می‌شود.

روش فرآیند آبکاری نقره رنگ گرادیان خلاء

فرآیند رنگ گرادیان عموماً توسط تجهیزات پوششی با کندوپاش مگنترون انجام می شود. در حال حاضر، پوشش بسیاری از تلفن های همراه از فرآیند رنگ گرادیان پوشش خلاء PVD استفاده می کند. البته از ماشین های پوشش نوری و ماشین های تبخیر نیز می توان برای ساخت شیب های مشابه استفاده کرد. جلوه رنگ متفاوت است، اما بافت بسیار متفاوت است.

نقره‌کاری با خلاء کندوپاش کردن فلزات و آلیاژها با اهداف مگنترون آسان است

منبع هدف به دو نوع متعادل و نامتعادل تقسیم می شود. منبع هدف متعادل دارای یک پوشش یکنواخت است و پوشش منبع هدف نامتعادل دارای نیروی پیوند قوی با بستر است. منابع هدف متعادل بیشتر برای فیلم های نوری نیمه هادی و اهداف نامتعادل بیشتر برای فیلم های تزئینی استفاده می شود.

صرف نظر از تعادل و عدم تعادل، اگر آهنربا ثابت باشد، مشخصه های میدان مغناطیسی آن مشخص می کند که میزان استفاده هدف عموماً کمتر از 30 درصد است. به منظور افزایش میزان استفاده از مواد مورد نظر، می توان از یک میدان مغناطیسی دوار استفاده کرد. با این حال، میدان مغناطیسی دوار نیاز به مکانیزم چرخشی دارد و سرعت کندوپاش باید در همان زمان کاهش یابد. میدان های مغناطیسی دوار بیشتر برای بزرگ یا گران قیمت استفاده می شود

هدف سنگین مانند کندوپاش فیلم نیمه هادی. برای تجهیزات کوچک و تجهیزات صنعتی عمومی، منبع هدف استاتیک میدان مغناطیسی اغلب استفاده می شود.

کندوپاش کردن فلزات و آلیاژها با منابع هدف مگنترون آسان است و احتراق و کندوپاش راحت است. این به این دلیل است که هدف (کاتد)، پلاسما و محفظه خلاء قسمت پراکنده شده می توانند یک مدار تشکیل دهند. اما در صورت کندوپاش کردن عایق هایی مانند سرامیک، مدار خراب می شود.

www.superbheater.com