ویژگی های نوری لایه های نازک تجهیزات آبکاری خلاء

ویژگی های نوری لایه های نازک تجهیزات آبکاری خلاء

خواص نوری لایه های نازک، مانند ضریب شکست، جذب و آستانه آسیب لیزر، عمدتاً به ریزساختار لایه لایه بستگی دارد. مواد فیلم، فشار گاز باقیمانده و دمای بستر همگی می توانند بر ریزساختار فیلم تأثیر بگذارند. اگر اتم‌های رسوب‌شده در تبخیر تحرک کمی روی سطح بستر داشته باشند، فیلم حاوی ریز منافذ خواهد بود. هنگامی که فیلم در معرض هوای مرطوب قرار می گیرد، این منافذ به تدریج با بخار آب پر می شوند.

تجهیزات آبکاری خلاء دمای بستر را افزایش می دهد

فرآیندهای پوشش معمولی به دمای بالای بستر (معمولاً حدود 3{2}}0 درجه) نیاز دارند. تکنیک های پیشرفته تر، مانند رسوب به کمک یون (IAD) را می توان در دمای اتاق انجام داد. فرآیند IAD نه تنها فیلم هایی با خواص فیزیکی بهتر نسبت به فرآیندهای پوشش معمولی تولید می کند، بلکه می تواند روی بسترهای ساخته شده از پلاستیک نیز اعمال شود. روش سنتی رسوب لایه نازک تبخیر حرارتی بوده است، یا با منابع تبخیر گرم شده مقاومتی یا با منابع تبخیر پرتو الکترونی. خواص فیلم عمدتاً توسط انرژی اتم های رسوب شده تعیین می شود که در تبخیر معمولی فقط حدود 0.1 eV است. رسوب IAD منجر به رسوب مستقیم بخار یونیزه می شود و انرژی فعال سازی را به فیلم در حال رشد، معمولاً در حد 50 eV اضافه می کند. منبع یونی با هدایت پرتو از تفنگ یونی به سطح زیرلایه و فیلم در حال رشد، خواص فیلم تبخیر پرتو الکترونی معمولی را بهبود می بخشد.

رطوبت جذب شده توسط فیلم جایگزین منافذ و فضای خالی می شود و باعث افزایش ضریب شکست فیلم می شود. از آنجایی که ضخامت فیزیکی فیلم ثابت می ماند، این افزایش در ضریب شکست با افزایش متناظر در ضخامت نوری همراه است که به نوبه خود باعث تغییر در خواص طیفی فیلم به سمت طول موج های بلندتر می شود. برای کاهش این جابجایی طیفی ناشی از حجم و تعداد ریز منافذ درون لایه لایه، یون‌های پرانرژی برای انتقال تکانه خود به اتم‌های ماده در حال تبخیر استفاده می‌شوند، در نتیجه تحرک اتم‌های ماده در طول تراکم در سطح زیرلایه به میزان زیادی افزایش می‌یابد.

www.superbheater.com