اشکال زیادی از فناوری کندوپاش برای روکشهای خلاء وجود دارد
پیام بگذارید
اشکال زیادی از فناوری کندوپاش برای روکشهای خلاء وجود دارد
به علاوه کندوپاش میدان بسته پلاسما را با استفاده از توزیع میدان مغناطیسی در یک میدان بسته محدود می کند. از دست دادن مواد مورد نظر به محفظه خلاء را کاهش می دهد و پلاسما را به قطعه کار نزدیک می کند. می توان پوشش های متراکمی به دست آورد و محفظه خلاء را می توان نسبتاً تمیز نگه داشت.
به علاوه کندوپاش دوقلو (DMS) تکنیکی است که برای رسوب گذاری پوشش های عایق استفاده می شود. به جای جریان مستقیم (DC) بین کاتدها و محفظه خلاء، جریان متناوب (AC) به هر دو کاتد اعمال می شود. این به هدف اجازه می دهد تا عملکرد خود تمیز شوندگی داشته باشد. کندوپاش مگنترون هدف دوقلو برای رسوب با سرعت بالا به عنوان مثال پوشش های اکسید استفاده می شود.
کندوپاش پوشش خلاء یکی دیگر از روش های فن آوری رسوب بخار فیزیکی است
کندوپاش روش دیگری از فناوری رسوب فیزیکی بخار است. فرآیند کندوپاش یک فناوری است که در آن یون ها سطح هدف را بمباران می کنند، به طوری که مواد هدف بمباران می شود. یک گاز بی اثر، مانند آرگون، به داخل محفظه خلاء شارژ می شود و با استفاده از ولتاژ بالا، تخلیه تابشی ایجاد می شود که یون ها را به سطح هدف شتاب می دهد، جایی که یون های آرگون مواد مورد نظر را بمباران می کنند. سطح، قبل از هدف معمولاً لازم است از گازهای دیگری مانند نیتروژن و استیلن برای واکنش با مواد هدف پراکنده شده برای تشکیل یک لایه ترکیبی استفاده شود. تکنیک کندوپاش میتواند پوششهای مختلفی را تهیه کند و در پوششهای تزئینی (مانند Ti، کروم، Zr و کربنیتریدها) مزایای زیادی دارد، زیرا پوششهای تهیهشده بسیار صاف هستند که باعث میشود فناوری کندوپاش نیز به طور گسترده مورد استفاده قرار گیرد. تریبولوژی برای بازار خودرو (مثلاً CrN، Cr2N و پوششهای مختلف کربن مانند الماس (DLC)). یون های پرانرژی هدف را بمباران می کنند، اتم ها را استخراج می کنند و آنها را به حالت گاز تبدیل می کنند. با استفاده از کندوپاش مگنترون می توان تعداد زیادی از مواد را پاشید.
www.superbheater.com
