الزامات فرآیند پوشش معمولی برای آبکاری نقره خلاء

الزامات فرآیند پوشش معمولی برای آبکاری نقره خلاء

فرآیندهای پوشش معمولی به دمای بالای بستر (معمولاً حدود 3{2}}0 درجه) نیاز دارند. تکنیک های پیشرفته تر، مانند رسوب به کمک یون (IAD) را می توان در دمای اتاق انجام داد. فرآیند IAD نه تنها فیلم هایی با خواص فیزیکی بهتر نسبت به فرآیندهای پوشش معمولی تولید می کند، بلکه می تواند روی بسترهای ساخته شده از پلاستیک نیز اعمال شود. روش سنتی رسوب لایه نازک تبخیر حرارتی بوده است، یا با منابع تبخیر گرم شده مقاومتی یا با منابع تبخیر پرتو الکترونی. خواص فیلم عمدتاً توسط انرژی اتم های رسوب شده تعیین می شود که در تبخیر معمولی فقط حدود 0.1 eV است. رسوب IAD منجر به رسوب مستقیم بخار یونیزه می شود و انرژی فعال سازی را به فیلم در حال رشد، معمولاً در حد 50 eV اضافه می کند. منبع یونی با هدایت پرتو از تفنگ یونی به سطح زیرلایه و فیلم در حال رشد، خواص فیلم تبخیر پرتو الکترونی معمولی را بهبود می بخشد.

فناوری پوشش کربن بی شکل الماس مانند آبکاری نقره خلاء

در محیط خلاء، با کمک یک گاز بی اثر، اتم های کربن روی سطح قطعه آبکاری شده جمع می شوند تا لایه هایی از بلورهای فشرده الماس را تشکیل دهند. پیوند بین آنها بسیار متراکم است، به طوری که قطعات آبکاری شده با DLC دارای سختی سطحی (حدود 3500 Hv)، پایداری و صافی هستند که می توانند از مواد سرامیکی پیشی بگیرند و از نظر بافت و چقرمگی بسیار برتر از مواد سرامیکی سنتی هستند. با این حال، از آنجایی که هزینه آن بسیار بالاتر از PVD است، در حال حاضر فقط در ساعت هایی با قیمت واحد متوسط ​​و بالا استفاده می شود.

علاوه بر DLC، یک فناوری پوشش کربنی آمورف الماس مانند ADLC درجه بالاتر (Amorphous-DL C) وجود دارد که توسط تعداد کمی در تولید ساعت استفاده می شود. پوشش سنتی DLC هنوز هم می تواند ساختار کریستالی نامنظم را در زیر میکروسکوپ الکترونی ببیند که همچنان بر استحکام کلی تأثیر می گذارد. در حالی که پوشش ADLC در زیر میکروسکوپ الکترونی مشاهده می شود، یک لایه آینه مانند نزدیک به سطح است. پوشش کامل قطعه آبکاری شده، سختی سطح نیز تا حد زیادی به حدود 6000 Hl افزایش می یابد که تقریباً نیمی از الماس طبیعی است که قدرتمندترین فناوری پوشش سطح در حال حاضر است.

www.superbheater.com