روش اصلی آبکاری نقره PVD با خلاء

روش اصلی آبکاری نقره PVD با خلاء

روش های اصلی PVD: تبخیر خلاء، کندوپاش، آبکاری یونی (آبکاری یونی کاتد توخالی، آبکاری یونی کاتد داغ، آبکاری یونی قوس الکتریکی، آبکاری یونی راکتیو راکتیو، آبکاری یونی با فرکانس رادیویی، آبکاری یونی تخلیه DC). فناوری PVD یک فناوری آبکاری یونی با تکنولوژی بالا و پرکاربرد در جهان است. دارای ویژگی های لایه پوشش متراکم و یکنواخت، چسبندگی قوی، خاصیت آبکاری خوب، سرعت رسوب سریع، دمای پردازش پایین و طیف گسترده ای از مواد آبکاری شده است. بهترین انتخاب برای مهندسی

خلاء نقره PVD-رسوب بخار فیزیکی

PVD-Physical Vapor Deposition: به فرآیند انتقال اتم ها یا مولکول ها از منبع به سطح بستر با استفاده از فرآیندهای فیزیکی برای دستیابی به انتقال مواد اشاره دارد. عملکرد آن این است که برخی از ذرات با خواص ویژه (استحکام بالا، مقاومت در برابر سایش، اتلاف حرارت، مقاومت در برابر خوردگی و ...) را روی ماتریس با کارایی کمتر پاشیده تا ماتریس عملکرد بهتری داشته باشد.

روش کندوپاش با سرعت بالا و دمای پایین برای آبکاری نقره در خلاء

کندوپاش معمولاً به کندوپاش مگنترون اشاره دارد که یک روش کندوپاش با سرعت بالا در دمای پایین است. این فرآیند به درجه خلاء حدود 1×10-3Torr نیاز دارد، یعنی حالت خلاء 1.3×{6}}Pa با گاز بی‌اثر آرگون (Ar) پر شده و بین بستر پلاستیکی اضافه می‌شود. آند) و هدف فلزی (کاتد). هنگامی که جریان مستقیم ولتاژ بالا اعمال می شود، الکترون های تولید شده توسط تخلیه تابش، گاز بی اثر را برای تولید پلاسما تحریک می کنند و پلاسما اتم های ماده هدف فلزی را منفجر می کند و آنها را روی بستر پلاستیکی رسوب می دهد. به طور کلی، کندوپاش DC برای اکثر پوشش های فلزی استفاده می شود، در حالی که کندوپاش RF AC برای مواد سرامیکی غیر رسانا استفاده می شود.

آبکاری یونی روشی است که در آن گاز یا مواد تبخیر شده با تخلیه گاز در شرایط خلاء تا حدی یونیزه می‌شوند و مواد تبخیر شده یا واکنش‌دهنده‌های آن‌ها بر روی زیرلایه تحت بمباران یون‌های گاز یا یون‌های ماده تبخیر شده رسوب می‌کنند. اینها شامل آبکاری یونی پراکنده مگنترون، آبکاری یونی راکتیو، آبکاری یونی تخلیه کاتد توخالی (روش تبخیر کاتد توخالی)، آبکاری یونی چند قوس (آبکاری یونی قوس کاتدی) و غیره است.

www.superbheater.com